發布時間:2022-07-15 11:29:33瀏覽數:
特氣系統是用于保證特種氣體安全使用的系統，大致由特氣設備、特種氣體管道和使用終端三部分組成，其中，特氣柜是特氣系統的核心設備，關系著穩定輸送氣體、保證特種氣體的使用安全和人員安全等功能。
三氟化氮（NF3），在微電子工業中是一種優良的等離子蝕刻氣體，隨著納米技術和電子工業的飛速發展，其需求量也在日益增加。高純三氟化氮（NF3）屬于電子特氣，毒性較強，人體直接接觸會有很大的危險，這時，便需要電子特氣柜這樣的特種氣體設備來保證氣體的純度和使用安全。
特氣設備特氣柜在刻蝕氣體三氟化氮（NF3）中的作用
純凈的NF3氣體是一種無色無味的氣體，當混入一定量的雜質氣體后顏色發黃，同時會有發霉或刺激性氣味。NF3氣體不可燃，但能助燃。當溫度超過350℃時，三氟化氮氣體會緩慢分解，分解時產生強氧化性氟，因此，在高溫下它是一種強氧化劑。
三氟化氮（NF3）是鹵化氮中最穩定的無機化合物，可在鈣的催化下由氨氣與氟氣制成。[1] 它可以用作氟化氫激光器的氧化劑，半導體、液晶和薄膜太陽能電池生產過程中的蝕刻劑。曾被試做火箭燃料。[2] 但由于三氟化氮屬于溫室氣體，能加劇溫室效應，因此有人認為應該限制這種化合物的使用。[3]
三氟化氮在半導體及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演“清潔劑”的角色，不過這類清潔劑是氣態，而非液態。
在半導體中，薄膜制程的主要設備是“化學氣相沉積”（CVD）機臺，會在晶圓片上長出薄膜。薄膜的成分有可能是硅、二氧化硅或其他金屬材料，但這些材料不僅會附著在芯片上，也附著在反應室內的墻壁上，內墻上的二氧化硅累積至相當數量，就會在反應室內形成微塵粒子（Particle），影響晶圓片的良率。
因此每臺CVD機臺在處理過規定數量的晶圓片后，就要使用含氟的氣體清洗，以去除內壁上的硅化物質。不過NF3與CF4、C2F6等氣體都屬于多氟碳化物，是造成溫室效應的來源之一。半導體廠為了降低排氣對溫室效應的影響，在排放含氟廢氣前，會以高溫（攝氏700、800度才進行）將氣體由有機轉分解為無機，才不會破壞臭氧層。
三氟化氮的主要應用領域
三氟化氮主要用作等離子蝕刻氣體和反應腔清洗劑，適用于半導體芯片、平板顯示器、光纖、光伏電池等制造領域。和其他含氟電子氣體相比，三氟化氮具有反應快、效率高的優點，尤其在對氮化硅等含硅材質的蝕刻中，具有較高的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑，而且對表面無污染，能夠滿足加工過程需求。
特氣柜設備主要應用作用
特氣柜（Gas Cabinet ）是專為易燃易爆、腐蝕性、毒性等危險性氣體供應而設計的供應系統，基本功能包括自動吹掃、自動切換以及緊急情況下的自動安全切斷（當設定報警信號被觸發時）。
特氣柜（GC）通過采用PLC控制，觸控屏為人機界面，通過設備安裝的壓力傳感器、氣動閥、過流量計等裝置，實現設備安全有效的運行。其內部PLC程式設計的安全聯鎖功能和高純閥件的合理選擇和布局，既滿足了半導體工藝生產過程中對特殊氣體連續供給和高純度的要求，同時也確保了工廠正常生產和員工人身安全。
特氣柜主要用于特種氣體的高純度安全穩定輸送，如：輸送特種氣體參與泛半導體行業集成電路制造的核心工藝流程：摻雜、光刻、刻蝕和CVD成膜工藝環節。
綜上，三氟化氮（NF3）是微電子行業中一種優良的等離子刻蝕氣體，是一種對人體有很大危險性的電子特氣，電子特氣柜的作用是可以保證三氟化氮（NF3）氣體的運輸安全、使用安全、氣體的純度和提供連續穩定的氣體壓力。感謝您的閱讀！
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以上，便是特氣設備特氣柜在刻蝕氣體三氟化氮（NF3）中的作用、特氣柜的設計和氣體管道要求，因為三氟化氮的危險特性，要選好特氣設備（特氣柜）和做好氣體管道安裝，這樣無論你是否使用，你都是可以放心和安全的。感謝您的閱讀！
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